酸化処理方法および酸化処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金坂憲幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998225492
Publication number (International publication number)：2000058543
Application date： Aug. 10, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】昇温工程での自然酸化膜の形成を十分に抑制することを可能とし、品質の優れた極薄酸化膜を形成することを可能とする。【解決手段】予め所定の温度に加熱された処理炉内に被処理体を収容し、処理炉内を所定の処理温度まで昇温させ、処理ガスを供給して被処理体を酸化処理する方法において、前記昇温の工程を減圧下で行う。

Claim (excerpt)：

予め所定の温度に加熱された処理炉内に被処理体を収容し、処理炉内を所定の処理温度まで昇温させ、処理ガスを供給して被処理体を酸化処理する方法において、前記昇温の工程を減圧下で行うことを特徴とする酸化処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/316 , H01L 21/31

FI (2)：

H01L 21/316 S , H01L 21/31 E

F-Term (26)：

5F045AA20 , 5F045AB32 , 5F045AB34 , 5F045AC11 , 5F045AC13 , 5F045AC15 , 5F045AD12 , 5F045AE25 , 5F045AF03 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP19 , 5F045EB12 , 5F045EB14 , 5F045EB17 , 5F045EE14 , 5F045EE18 , 5F045EG03 , 5F058BA06 , 5F058BC02 , 5F058BF55 , 5F058BF60 , 5F058BF63 , 5F058BF68 , 5F058BH20 , 5F058BJ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

熱酸化膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-196099 Applicant：日本真空技術株式会社
絶縁膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-323129 Applicant：沖電気工業株式会社
酸化膜の作製方法及び酸化膜の作製装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-291764 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所

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