基板洗浄装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997117810
Publication number (International publication number)：1998308375
Application date： May. 08, 1997
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】作業性が良く、誰でも簡単に洗浄制御データを装置に指定でき、均一な洗浄を行う。【解決手段】外部記憶装置54には各種の洗浄条件に応じた洗浄制御データが記憶されている。オペレータが既知の洗浄条件を設定器57から設定すると、制御部50は、設定器57から設定された洗浄条件に応じた洗浄制御データを外部記憶装置54から読み出し、その洗浄制御データに従って各機器を制御して基板を洗浄する。

Claim (excerpt)：

洗浄条件に応じた洗浄制御データに従って基板を洗浄する基板洗浄装置であって、各種の洗浄条件に応じた洗浄制御データを記憶する記憶手段と、洗浄条件を設定する設定手段と、前記設定手段から設定された洗浄条件に応じた洗浄制御データを前記記憶手段から読み出し、その洗浄制御データに従って基板を洗浄する制御手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

半導体装置の製造方法ならびに製造装置、洗浄方法ならびに洗浄装置、加工装置、流体混合用配管、および、洗浄用液体供給部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-225019 Applicant：株式会社日立製作所
処理装置、洗浄処理装置の画面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-214122 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
洗浄方法及び洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-070903 Applicant：株式会社荏原製作所

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