ポリシロキサン及びポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999024236
Publication number (International publication number)：2000219743
Application date： Feb. 01, 1999
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】高感度であり、0.2μm以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること、並びにポジ型フォトレジスト組成物に上記の優れた特性を付与することができるポリシロキサンを提供すること。【解決手段】フェノール性水酸基及び/又は該水酸基が酸分解性基で保護された構造を有する単位を有するポリシロキサン、並びにこのポリシロキサンを含有するポジ型フォトレジスト組成物が提供される。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表される構造単位を含有することを特徴とするアルカリ可溶性ポリシロキサン。【化1】一般式(I)中:nは、1〜6の整数を表す。Lは、-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A-NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-、-A-OCONH-、-A-CONHCO-、及び-A-S-からなる群から選択される2価の連結基を表す。Aは、単結合又はアリーレン基を表す。Xは、単結合又は2価の連結基を表す。Zは、下記式(II-1)及び(II-2)【化2】で表される基からなる群から選択される一価の基を表す。ここで、Yは水素原子、直鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示し、lは1〜3の整数であり、mは1〜3の整数である。

IPC (12)：

C08G 77/14 , C08K 5/02 , C08K 5/3492 , C08K 5/36 , C08K 5/41 , C08K 5/42 , C08L 83/06 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , G03F 7/075 521 , H01L 21/027

FI (12)：

C08G 77/14 , C08K 5/02 , C08K 5/3492 , C08K 5/36 , C08K 5/41 , C08K 5/42 , C08L 83/06 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , G03F 7/075 521 , H01L 21/30 502 R

F-Term (45)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB08 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB33 , 2H025CC20 , 2H025DA13 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA41 , 4J002CP05X , 4J002CP06W , 4J002CP09W , 4J002CP10W , 4J002EB006 , 4J002EU186 , 4J002EU216 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J035BA12 , 4J035BA14 , 4J035CA072 , 4J035CA08N , 4J035CA081 , 4J035CA102 , 4J035CA192 , 4J035CA262 , 4J035EA01 , 4J035LA03 , 4J035LB16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (16)

特開平2-029652
ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-270580 Applicant：信越化学工業株式会社
ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-294009 Applicant：日本電信電話株式会社

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Cited by examiner (22)

液晶の配向のための感光性物質ならびにそれを用いた液晶装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-309382 Applicant：エルジー電子株式会社
特開平2-029652
特開平2-029652

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