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J-GLOBAL ID:200903017888394880
新規高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998058946
Publication number (International publication number):1998310642
Application date: Feb. 24, 1998
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【解決手段】 フェノール性水酸基を有し、このフェノール性水酸基の水素原子の一部が少なくとも1種の酸不安定基で置換された高分子シリコーン化合物が残りのフェノール性水酸基の一部において更に分子内及び/又は分子間でC-O-C基を有する架橋基で架橋されている重量平均分子量5,000〜50,000の高分子シリコーン化合物。【効果】 本発明の高分子シリコーン化合物をベース樹脂としたポジ型レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特にKrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成することができるという特徴を有する。また、酸素プラズマエッチング耐性に優れているため、下層レジストの上に本発明のレジスト膜を塗布した2層レジストは、微細なパターンを高アスペクト比で形成し得るという特徴も有する。
Claim (excerpt):
フェノール性水酸基を有し、このフェノール性水酸基の水素原子の一部が少なくとも1種の酸不安定基で置換された高分子シリコーン化合物が残りのフェノール性水酸基の一部において更に分子内及び/又は分子間でC-O-C基を有する架橋基で架橋されている重量平均分子量5,000〜50,000の高分子シリコーン化合物。
IPC (5):
C08G 77/14
, C08G 77/46
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
, G03F 7/075 511
FI (5):
C08G 77/14
, C08G 77/46
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (18)
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ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-270580
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-104589
Applicant:信越化学工業株式会社
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高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-029321
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-110395
Applicant:信越化学工業株式会社
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架橋基を有する高分子化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-110396
Applicant:信越化学工業株式会社
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高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-017972
Applicant:信越化学工業株式会社
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部分水素化高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-023939
Applicant:信越化学工業株式会社
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新規高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-050089
Applicant:信越化学工業株式会社
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高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-053361
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-187942
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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架橋されたポリマー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-098487
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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橋かけポリマー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-330237
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-303512
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-193356
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-094845
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-094846
Applicant:信越化学工業株式会社
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-259431
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-259433
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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