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J-GLOBAL ID：200903013339504270

プラズマを用いた流体浄化方法および流体浄化装置

Inventor：
清水 一男

About 清水 一男


Applicant, Patent owner：
清水 一男

About 清水 一男


Agent (1)： 特許業務法人太田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008231474
Publication number (International publication number)：2009078266
Application date： Sep. 09, 2008
Publication date： Apr. 16, 2009
Summary：
【課題】触媒を用いずに、電極間のギャップをμmオーダーとし大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、活性力が大きい低温プラズマを発生させ流体の浄化を向上させることができるプラズマを用いた流体浄化方法及び流体浄化装置を提供する。【解決手段】複数の貫通孔11,12を有する金属基板13,14、2枚を、貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設し、金属基板間に電圧を印可して放電を発生させるとともに、貫通孔に流体を通過させて流体を浄化する方法であって、金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜16が露出して形成されていることを特徴とするプラズマを用いた流体浄化方法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
複数の貫通孔を有する金属基板2枚を、該貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設し、 該金属基板間に電圧を印可して放電を発生させるとともに、 該貫通孔に流体を通過させて流体を浄化する方法であって、 該金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜が露出して形成されていることを特徴とするプラズマを用いた流体浄化方法。
IPC (5)：
B01J 19/08 ,  A61L 9/18 ,  C02F 1/30 ,  B01D 53/72 ,  H05H 1/24
FI (5)：
B01J19/08 E ,  A61L9/18 ,  C02F1/30 ,  B01D53/34 120D ,  H05H1/24
F-Term (26)：
4C080AA09 ,  4C080BB05 ,  4C080CC02 ,  4C080QQ11 ,  4D002AA32 ,  4D002BA09 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4D037AA01 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037BA16 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EC25 ,  4G075FA01 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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