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J-GLOBAL ID：200903013500680580

フェムト秒レーザー発生装置、およびこれを用いた基板の切断方法

Inventor：
朴 正權

About 朴 正權


Applicant, Patent owner：
エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド

About エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド


Agent (5)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005185496
Publication number (International publication number)：2006130556
Application date： Jun. 24, 2005
Publication date： May. 25, 2006
Summary：
【課題】フェムト秒レーザーを用いた基板の切断時に焦点深度の異なる集光レンズを用いることで、切断面のテーパ角度を減らすようにした、フェムト秒レーザー発生装置、及びこれを用いた基板の切断方法を提供する。【解決手段】フェムト秒レーザー発振器200で発振したフェムト秒レーザーを第1、第2フェムト秒レーザーに分割する第1ビームスプリッター210と、前記第1ビームスプリッターから分割された第1フェムト秒レーザーを、第1焦点深度を有するように集束させる第1集光レンズ230と、前記第1ビームスプリッターから分割された第2フェムト秒レーザーを受けて前記第1焦点深度と異なる第2焦点深度を有するように集束させる第2集光レンズ250と、前記第1、第2集光レンズで集束された第1、第2フェムト秒レーザーを受け、切断する基板100の互いに異なる位置に照射する第2ビームスプリッター260とを含んでなることを特徴とする。【選択図】図6
Claim (excerpt)：
フェムト秒レーザーを発振するフェムト秒レーザー発振器と、 前記フェムト秒レーザー発振器で発振したフェムト秒レーザーを第1、第2フェムト秒レーザーに分割する第1ビームスプリッターと、 前記第1ビームスプリッターから分割された第1フェムト秒レーザーを、第1焦点深度を有するように集束させる第1集光レンズと、 前記第1ビームスプリッターから分割された第2フェムト秒レーザーを、前記第1焦点深度と異なる第2焦点深度を有するように集束させる第2集光レンズと、 前記第1、第2集光レンズで集束された前記第1、第2フェムト秒レーザーを受け、切断する基板の互いに異なる位置に照射する第2ビームスプリッターと を備えたフェムト秒レーザー発生装置。
IPC (7)：
B23K 26/38 ,  B23K 26/03 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/067 ,  B23K 26/40 ,  B28D 5/04 ,  G02F 1/133
FI (7)：
B23K26/38 320 ,  B23K26/03 ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/067 ,  B23K26/40 ,  B28D5/04 Z ,  G02F1/1333 500
F-Term (24)：
2H090JB02 ,  2H090JC01 ,  2H090LA01 ,  3C069AA01 ,  3C069BA08 ,  3C069BB01 ,  3C069CA06 ,  4E068AE00 ,  4E068CA01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA11 ,  4E068CA14 ,  4E068CA17 ,  4E068CB08 ,  4E068CC02 ,  4E068CD04 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CD11 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068DA09 ,  4E068DB11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
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Cited by examiner (5)
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