水素貯蔵・供給システムおよび水素貯蔵・供給装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：渡辺秀治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000388043
Publication number (International publication number)：2002187702
Application date： Dec. 21, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】水素の貯蔵または供給に利用する水素付加反応あるいは脱水素反応の反応効率を高めること。【解決手段】水素貯蔵体を入れた第一液槽31,32または水素供給体を入れた第二液槽31,32と、水素付加反応または脱水素反応を行うと共に、水素付加反応または脱水素反応に利用する触媒42とを備えた反応炉35と、反応炉35に供給する水素貯蔵体または水素供給体を、触媒42に向けて霧状に噴射する噴射ノズル44を持つ噴射機構部と、反応炉35で生成した水素貯蔵体または水素供給体を冷却する冷却槽36とを備えた水素貯蔵・供給装置30とすること。

Claim (excerpt)：

水素と反応して、その水素を貯蔵する芳香族化合物から成る水素貯蔵体と、水素を放出して上記芳香族化合物に変化する水素供給体との間における水素付加反応および脱水素反応を利用して水素の貯蔵および供給を行う水素貯蔵・供給システムであって、水素付加反応または脱水素反応の内、少なくともいずれか1つの水素反応に利用する触媒に、上記水素貯蔵体または上記水素供給体を霧状に噴射する噴射ノズルを備えた水素反応装置と、上記水素反応装置内における水素付加反応のために水素を供給する水素供給装置と、上記水素反応装置内における脱水素反応によって生成された水素を利用して発電する発電装置と、を備えることを特徴とする水素貯蔵・供給システム。

IPC (4)：

C01B 3/00 , F17C 11/00 , H01M 8/00 , H01M 8/06

FI (4)：

C01B 3/00 B , F17C 11/00 C , H01M 8/00 Z , H01M 8/06 R

F-Term (9)：

3E072EA10 , 4G040AA12 , 4G040AA42 , 4G140AA12 , 4G140AA42 , 5H027AA02 , 5H027BA13 , 5H027DD00 , 5H027DD01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

有機ハイドライド/金属ハイドライドヒートポンプ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-514576 Applicant：ユナイテッドテクノロジーズコーポレイション
特開平2-033867
自動車用発電装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-168095 Applicant：株式会社エクォス・リサーチ, アイシン・エィ・ダブリュ株式会社

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