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J-GLOBAL ID:200903014520938970
低摩擦係数の複合硬質皮膜の形成法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
村田 幸雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998314507
Publication number (International publication number):2000144378
Application date: Nov. 05, 1998
Publication date: May. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】摺動部を有する硬質な製品表面の摩擦係数を非常に小さくし、省エネルギー効果を飛躍的に向上できる、複合硬質皮膜を提供する。【解決手段】硬質皮膜をプラズマを用いるPVD法により基板上に形成させる工程において、その後半〜終了付近工程で炭化水素ガス(例えばアセチレンガス)を供給する。製品は、表面皮膜がアモルファスカーボン含有の低摩擦係数の硬質皮膜で複層されたものとなる。
Claim (excerpt):
硬質皮膜をプラズマを用いるPVD法により基板上に形成させる工程において、その後半〜終了付近工程で炭化水素ガスを供給することを特徴とする低摩擦係数の複合硬質皮膜の形成法。
IPC (5):
C23C 14/06
, B23P 15/28
, C23C 14/34
, C23C 16/26
, C23C 28/04
FI (7):
C23C 14/06 M
, C23C 14/06 F
, C23C 14/06 K
, B23P 15/28 A
, C23C 14/34 A
, C23C 16/26 Z
, C23C 28/04
F-Term (38):
4K029AA02
, 4K029BA03
, 4K029BA07
, 4K029BA34
, 4K029BA50
, 4K029BA55
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029BB10
, 4K029BC02
, 4K029BD04
, 4K029BD05
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC06
, 4K029DC39
, 4K029EA04
, 4K030AA09
, 4K030BA02
, 4K030BA06
, 4K030BA27
, 4K030BA36
, 4K030BA38
, 4K030BA42
, 4K030BB05
, 4K030BB12
, 4K030CA01
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030HA13
, 4K030LA21
, 4K030LA23
, 4K044AB10
, 4K044BA18
, 4K044BB03
, 4K044BC01
, 4K044CA13
, 4K044CA14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開平3-069830
-
硬質炭素被膜基板及びその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-216319
Applicant:三洋電機株式会社
-
表面被覆セラミック工具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-274135
Applicant:日本特殊陶業株式会社
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