フォトレジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995164838
Publication number (International publication number)：1997015846
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】波長220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザに対して高い透明性を有し、かつ高感度、高解像度を有するフォトレジスト組成物を提供する。【構成】少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と露光により酸を発生する光酸発生剤と一般式(1)で表される環式飽和炭化水素のカルボン酸エステル、又は環式飽和炭化水素のカルボン酸エステルを有する高分子化合物を溶解阻止剤として含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。(但し、R1 は1価〜6価の炭素数6〜11の単環式、又は多環式炭化水素基、或いは有橋環式炭化水素基、R2 は酸の作用により分解する基、nは1〜6を表す)

Claim (excerpt)：

少なくともアルカリ可溶性樹脂を40〜94.8重量部、露光により酸を発生する光酸発生剤を0.2〜10重量部、溶解阻止剤を5〜50重量部含有し、かつ前記溶解阻止剤が一般式(1)で表される環式飽和炭化水素のカルボン酸エステルよりなることを特徴とするフォトレジスト組成物。【化1】(但し、R1 は1価〜6価の炭素数6〜11の単環式、又は多環式炭化水素基、或いは有橋環式炭化水素基、R2 は酸の作用により分解する基を表す。また、nは1〜6)

IPC (4)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-355761
ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-300372 Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-128606 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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