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J-GLOBAL ID:200903090036906116

感光性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 船橋 國則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994274707
Publication number (International publication number):1996106158
Application date: Nov. 09, 1994
Publication date: Apr. 23, 1996
Summary:
【要約】【目的】 短波長の露光光に対して透明性を有しかつドライエッング耐性に優れた感光性組成物を提供する。【構成】 ベース樹脂と溶解禁止剤と光酸発生剤とからなる3成分系のポジ型感光性組成物において、上記溶解禁止剤はポリオール系化合物の水酸基をチオクトカルボニル基で保護した構成である。これによって、露光とその後の現像処理とによって形成される上記感光性組成物からなるパターンには硫黄が残存し、このパターンをマスクにしてドライエッチングを行った場合には、パターン中の硫黄を含む化合物が分解され、硫黄及び硫黄化合物がパターンの露出面及びエッチング側壁に付着してエッチング保護膜が形成される。
Claim (excerpt):
ベース樹脂と、溶解禁止剤と、光酸発生剤とからなる感光性組成物において、前記溶解禁止剤は、複数のアルコール性水酸基を有するポリオール系化合物の水酸基を、硫黄を含む酸脱離性保護基で保護してなるものであることを特徴とする感光性組成物。
IPC (5):
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • ポジ型感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-244794   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物溶液
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-198742   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • レジスト塗布組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-059928   Applicant:日本合成ゴム株式会社
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