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J-GLOBAL ID:200903014710629214
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994268112
Publication number (International publication number):1995230169
Application date: Oct. 07, 1994
Publication date: Aug. 29, 1995
Summary:
【要約】【目的】 特に解像度およびパターン形状が優れるとともに、感度および現像性にも優れ、しかもコントラスト、耐熱性等も良好な化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 感放射線性樹脂組成物は、下記式で代表される共重合体(イ)および感放射線性酸発生剤(ロ)を含有するか、前記(イ)および(ロ)とアルカリ可溶性樹脂(ハ)とを含有することを特徴とする。【化1】〔ここで、mおよびnは各繰返し単位数を表す整数であり、0.1≦m/(m+n)<0.6および0.4<n/(m+n)≦0.9の関係を満たす。〕
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表される共重合体(イ)および感放射線性酸発生剤(ロ)を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R は水素原子またはメチル基を示し、mおよびnは各繰返し単位数を表す整数であり、0.1≦m/(m+n)<0.6および0.4<n/(m+n)≦0.9の関係を満たす。〕
IPC (4):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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パターン形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-275149
Applicant:三菱電機株式会社
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感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-271561
Applicant:キヤノン株式会社
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改良型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-266844
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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パターン形成材料およびパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-110471
Applicant:富士通株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-270332
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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