水素還元水の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：羽鳥亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004116534
Publication number (International publication number)：2005296794
Application date： Apr. 12, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：

【目的】多量の水素ガスを水に溶解せしめ、従来の還元水を凌ぐ飲用に適した高還元性の還元水を得る。【構成】水素ガスを2〜10気圧に加圧した下で該水素ガスにカルシウムなどのミネラルを含む原水を接触させる。これにより、原水中に水素ガスを溶解せしめた後、これを高気密性容器に充填して密閉し、その状態で加熱殺菌処理を施す。高気密性容器としては、水素ガスに対して遮蔽性の高いアルミ層をもつシート材料から作られるパウチ(アルミパウチ)を好適に用いることができる。

Claim (excerpt)：

水素ガスと原水とを加圧下で接触させて前記原水中に水素ガスを溶解せしめることを特徴とする水素還元水の製造方法。

IPC (5)：

C02F1/68 , A23L2/00 , B01F1/00 , B01J3/04 , C02F1/02

FI (10)：

C02F1/68 510B , C02F1/68 520B , C02F1/68 520D , C02F1/68 520G , C02F1/68 530A , C02F1/68 540Z , B01F1/00 A , B01J3/04 B , C02F1/02 C , A23L2/00 V

F-Term (12)：

4B017LE10 , 4B017LK01 , 4B017LK06 , 4B017LK08 , 4B017LK14 , 4B017LK16 , 4B017LP10 , 4B017LP13 , 4B017LP15 , 4D034AA00 , 4D034CA06 , 4G035AA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

電解還元水およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-054146 Applicant：株式会社日本トリム
プラズマ状態で活性化した水素を用いた溶存酸素の除去法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-116258 Applicant：有限会社祥栄

Cited by examiner (5)

溶存気体濃度増加装置及び溶存気体濃度増加方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-369677 Applicant：佐藤清
水素水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-145665 Applicant：飯田恵巳, 林秀光, 直井武
食品等の還元性水素水とその製造方法並びに製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-219589 Applicant：熊本県

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