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J-GLOBAL ID：200903015275953434

半導体装置及びその製造方法

Inventor：
國島 巌

About 國島 巌


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996125758
Publication number (International publication number)：1997312291
Application date： May. 21, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、コンタクト抵抗を上昇させずに低抵抗の配線材料による埋め込み配線構造を形成でき、もって、高速動作の実現を図る。【解決手段】 各電極配線層(22,26)としては、基板(21)に略垂直な側面部と基板に略平行な側面部とが互いに異なる材質の拡散障壁層(29,30)に接しており、また、コンタクトホール24の内部が、電極配線層と同種の導電性材質(28)で埋込まれ、この埋め込まれた導電性材質と電極配線層(22)との界面に拡散障壁層が存在しない半導体装置及びその製造方法。
Claim (excerpt)：
半導体基板上に複数層の電極配線層が形成され、対応する各電極配線層が互いにコンタクトホールを介して接続された構造を有する半導体装置において、前記各電極配線層は、基板に略垂直な側面部と基板に略平行な側面部とが互いに異なる材質の拡散障壁層に接していることを特徴とする半導体装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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