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J-GLOBAL ID:200903015688472426
感光性組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996156962
Publication number (International publication number):1998003169
Application date: Jun. 18, 1996
Publication date: Jan. 06, 1998
Summary:
【要約】【課題】 短波長、特にArFエキシマレーザ光の193nmの深紫外線に対して高い感度を有し、解像性に優れるとともに、十分なドライエッチング耐性を備え、かつクラックの発生や基板からの剥離が起こらないレジストパターンを形成し得るアルカリ現像用感光性組成物を提供する。【解決手段】 極性基が導入された脂環式構造を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とする。かかる高分子化合物は、酸分解性基を側鎖に有する構造単位との共重合体とし、化学放射線の照射により酸を発生する化合物を配合して化学増幅型レジストとして使用することができる。
Claim (excerpt):
OH基、NO2 基のうちから選ばれた少なくとも1種の置換基が導入された脂環式構造、または2個のO原子が結合しているS原子が導入された複素環式構造を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (7):
G03F 7/039 501
, C08L101/00 LTB
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
, C08L 33/04 LJH
, C09D133/04 PFY
FI (7):
G03F 7/039 501
, C08L101/00 LTB
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, C08L 33/04 LJH
, C09D133/04 PFY
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-280695
Applicant:日本電気株式会社
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-287820
Applicant:株式会社東芝
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-285187
Applicant:日本ゼオン株式会社
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酸触媒ポジ型レジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-114594
Applicant:シプレイ・カンパニー・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー
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ポジチブ処理用の感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-240820
Applicant:ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-330236
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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