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J-GLOBAL ID：200903045381994073

酸触媒ポジ型レジスト

Inventor：
ジェイムズ・ダブリュ・サッカリー

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ロジャー・エフ・シンタ

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マーク・ディ・デニソン

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シェリィ・エル・アブラザ

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Applicant, Patent owner：
シプレイ・カンパニー・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー

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Agent (1)： 津国 肇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996114594
Publication number (International publication number)：1996314142
Application date： May. 09, 1996
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、ディープUV露光に適した、サブミクロン寸法の高解像形状を形成する能力を有するフォトレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、ヒドロキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂バインダーと、光によって発生した酸と接触すると開裂する酸不安定性基を有する溶解抑制剤と、活性化電磁波又は粒子線に曝されると酸を発生する化合物との組み合わせを含むポジ型フォトレジスト組成物であって、該樹脂バインダーが、そのヒドロキシル基の従部分が反応させられて、光によって発生した酸に対して不活性の基が形成されたものであり、該酸発生剤が、活性化電磁波又は粒子線に曝されると、該溶解抑制剤における該酸不安定性基を開裂させるのに十分な酸を遊離する量で存在し、それにより、該フォトレジストが、活性化電磁波又は粒子線に曝されるところをもって可溶となることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
ヒドロキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂バインダーと、光によって発生した酸と接触すると開裂する酸不安定性基を有する溶解抑制剤と、活性化電磁波又は粒子線に曝されると酸を発生する化合物との組み合わせを含むポジ型フォトレジスト組成物であって、該樹脂バインダーが、そのヒドロキシル基の従部分が反応させられて、光によって発生した酸に対して不活性の基が形成されたものであり、該酸発生剤が、活性化電磁波又は粒子線に曝されると、該溶解抑制剤における該酸不安定性基を開裂させるのに十分な酸を遊離する量で存在し、それにより、該フォトレジストが、活性化電磁波又は粒子線に曝されるところをもって可溶となることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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