Pat
J-GLOBAL ID:200903015694345169
光学記録方法、光学記録装置及び光学記録媒体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
田辺 恵基
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996162403
Publication number (International publication number):1997320127
Application date: Jun. 03, 1996
Publication date: Dec. 12, 1997
Summary:
【要約】【課題】本発明は、被露光体の被露光面に所望の幅でなるピツト列を形成することができると共に、当該ピツト列の各ピツトの形状を略矩形状とすることができる光学記録方法、光学記録装置及び光学記録媒体を実現しようとするものである。【解決手段】レーザ光源から発射されたレーザ光を所定フオーマツトの変調信号に応じて強度変調すると共に、当該強度変調に同期して所定の信号の周波数及び振幅量に応じて光偏向して、ピツト毎に被露光面に対するレーザ光の進行方向と垂直な方向に振りながら被露光面に集光照射することにより、レーザ光のスポツト径を変化させることなく被露光体の被露光面に所望の幅でなるピツト列を形成することができると共に、当該ピツト列の各ピツトの形状を略矩形状とすることができる。
Claim (excerpt):
レーザ光源から発射されたレーザ光を所定フオーマツトの変調信号に応じて強度変調した後、当該強度変調されたレーザ光を被露光体の被露光面に集光照射することにより、上記被露光面に上記変調信号に応じたピツト列を形成する光学記録方法において、上記レーザ光を、上記強度変調に同期して所定の信号の周波数及び振幅量に応じて光偏向することにより、上記ピツト毎に上記被露光面に対する上記レーザ光の進行方向と垂直な方向に振りながら上記被露光面に集光照射することを特徴とする光学記録方法。
IPC (3):
G11B 7/26 501
, G11B 7/00
, G11B 7/125
FI (3):
G11B 7/26 501
, G11B 7/00 K
, G11B 7/125 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
光記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-358181
Applicant:ソニー株式会社
-
光記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-270607
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社, 日本鋼管株式会社
-
特開昭63-263647
-
光ディスク原盤露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-182476
Applicant:株式会社リコー
-
光ディスク原盤記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-123329
Applicant:株式会社東芝
-
光ディスク用マスター原盤の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-004826
Applicant:三菱化成株式会社
-
露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-220070
Applicant:富士通株式会社
-
特開昭63-263647
Show all
Return to Previous Page