基板処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003324207
Publication number (International publication number)：2005093653
Application date： Sep. 17, 2003
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：

【課題】各処理部や搬送ロボットを的確に制御することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の制御システムを、メインコントローラMC、セルコントローラCC、ユニットコントローラUCの3階層からなる階層構造としている。第1階層のメインコントローラMCは、装置全体に1つ設けられており、装置全体の管理、メインパネルの管理およびセルコントローラCCの管理を主に担当する。第2階層のセルコントローラCCはセルごとに設けられ、対応するセル内の搬送ロボットの管理および該搬送ロボットが搬送を担当する処理部の動作の管理を主に担当する。第3階層のユニットコントローラUCは、処理部を個別に直接管理する。このようにして各コントローラの制御負荷を分散して軽減し、各コントローラの負担が過度に増大することを抑制し、処理部や搬送ロボットを的確に制御することができる。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

それぞれが基板に所定の処理を行う複数の処理部と、前記複数の処理部に対して基板を搬送する複数の搬送ロボットとを備える基板処理装置であって、装置全体を管理するメインコントローラと、前記複数の処理部を個別に管理する処理部コントローラと、前記複数の搬送ロボットのそれぞれおよび該搬送ロボットが搬送を担当する処理部の動作を管理する中間コントローラと、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/68

FI (3)：

H01L21/02 Z , H01L21/68 A , H01L21/30 562

F-Term (30)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031DA08 , 5F031EA14 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA13 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA48 , 5F031HA59 , 5F031JA22 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA02 , 5F046CD05 , 5F046JA27 , 5F046KA10 , 5F046LA19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071036 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

Cited by examiner (5)

半導体基板処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-326504 Applicant：松下電子工業株式会社
多連型プロセス装置の制御システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270569 Applicant：国際電気株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-223022 Applicant：国際電気株式会社

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