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J-GLOBAL ID：200903016300766306

フォトレジスト組成物

Inventor： 及川 勝之 ,  石原 俊信 ,  田中 啓順 ,  河合 義夫 ,  松田 維人
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社 ,  日本電信電話株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993157896
Publication number (International publication number)：1994348002
Application date： Jun. 03, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【構成】 下記式(1)で表わされる1-エトキシ-2-プロパノールを主成分とする溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。【化1】【効果】 本発明のフォトレジスト組成物によれば、所望する幅広い膜厚で平坦性に優れたレジスト膜を形成することかできる。

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表わされる1-エトキシ-2-プロパノールを主成分とする溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。【化1】

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平3-107164
  
• 特開平3-107161
  
• 特開平3-107163
  
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194444   Applicant：三菱化成株式会社
• 特開昭63-220139
  
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-005795   Applicant：住友化学工業株式会社
• 潜像崩壊に耐性のあるディープUV感受性フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-034687   Applicant：モートンインターナショナル,インコーポレイティド
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-285186   Applicant：日本ゼオン株式会社