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J-GLOBAL ID：200903030336665452

レジスト組成物

Inventor：
尾家 正行

About 尾家 正行

, 
阿部 信紀

About 阿部 信紀


Applicant, Patent owner：
日本ゼオン株式会社

About 日本ゼオン株式会社


Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992285186
Publication number (International publication number)：1994118649
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及び耐熱性などのレジスト特性に優れ、かつ、これらの諸特性が高度にバランスしているレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、酸不安定性基を有する化合物(B)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(C)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が特定のフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、酸不安定性基を有する化合物(B)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(C)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が一般式(I)〜(VIII)で示されるフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7〜R10:水素、アルキル基一般式(II)【化2】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基一般式(III)【化3】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R14:水素、アルキル基一般式(IV)【化4】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基一般式(V)【化5】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R12:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VI)【化6】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VII)【化7】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VIII)【化8】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7:水素、アルキル基
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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