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J-GLOBAL ID:200903016664028211
液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネル
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997262267
Publication number (International publication number):1999101987
Application date: Sep. 26, 1997
Publication date: Apr. 13, 1999
Summary:
【要約】【課題】 TFT等のスイッチング素子の下側からの戻り光等の光に対する遮光性能と、該スイッチング素子のスイッチング特性とを改善し得る、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示パネルを提供すること。【解決手段】 第1基板(1)上に、順に、遮光層(3)、第1層間絶縁層(41)、チャネル層(32)、ゲート絶縁膜(33)、ゲート電極(31)を形成する際に、工程(3)に示すように、第1層間絶縁層41の表面部を所定厚さだけエッチングにより取り除き、工程(4)に示すように、エッチングされた第1層間絶縁層41上にチャネル層(32)を形成する。
Claim (excerpt):
一対の第1及び第2基板と、該第1及び第2基板間に挟持された液晶と、前記第1基板の前記液晶に対面する側にマトリクス状に設けられた複数の透明な画素電極と、各画素電極に対応して複数の信号電極と複数のスイッチング素子が形成され、前記信号電極からのデータに基づいて該スイッチング素子を介して前記画素電極に電圧が印加される液晶表示パネルの製造方法であって、前記第1基板と前記スイッチング素子との間で、前記複数のスイッチング素子に夫々対向する前記第1基板上の位置に高融点金属からなる遮光層を形成する工程と、該遮光層上に絶縁層を形成する工程と、該絶縁層の表面部のエッチングを行う工程と、エッチング後の前記絶縁層上にチャネル層を有する前記複数のスイッチング素子を形成する工程と、を備えたことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
IPC (5):
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335 500
, G09F 9/30 348
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (4):
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335 500
, G09F 9/30 348 A
, H01L 29/78 612 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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アクティブマトリクス型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-326103
Applicant:シャープ株式会社
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特開昭54-061949
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特開昭57-043434
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薄膜トランジスタおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-197348
Applicant:富士通株式会社
-
薄膜半導体素子とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-190854
Applicant:シャープ株式会社
-
液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-283130
Applicant:ソニー株式会社
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液晶表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-261115
Applicant:三洋電機株式会社
-
表示装置および表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-196779
Applicant:三洋電機株式会社
-
半導体装置及び半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-066296
Applicant:ソニー株式会社
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