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J-GLOBAL ID:200903017410896678
n型ダイヤモンド半導体
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中野 稔 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003030186
Publication number (International publication number):2003303954
Application date: Feb. 07, 2003
Publication date: Oct. 24, 2003
Summary:
【要約】【課題】 室温から高温までの広い温度範囲で、キャリア濃度や抵抗率の変化が少ないn型ダイヤモンド半導体を得る。【解決手段】 ドープ層とノンドープ層を交互に積層して構成したものであり、(a)単結晶ダイヤモンド基板100と、(b)実質的に不純物が添加されていないダイヤモンド半導体材料から成る薄いノンドープ層1101〜110n+1(nはサイクル数)と、(c)ノンドープ層1101〜110n+1に挟まれるように形成され、n型ダイヤモンド半導体となるように2種類以上の不純物が添加されたダイヤモンド半導体材料から成る非常に薄いドープ層1201〜120nとから構成される。
Claim (excerpt):
ダイヤモンド半導体材料から成り、(a)実質的に不純物が添加されていない第1のノンドープ層と、(b)前記第1のノンドープ層の一方の表面に形成されたn型半導体となるように2種類以上の不純物が添加されたドープ層と、(c)前記ドープ層の表面に形成された実質的に不純物が添加されていない第2のノンドープ層と、を備えることを特徴とするn型ダイヤモンド半導体。
IPC (4):
H01L 29/165
, H01L 21/20
, H01L 21/205
, H01L 29/167
FI (4):
H01L 29/165
, H01L 21/20
, H01L 21/205
, H01L 29/167
F-Term (15):
5F045AA09
, 5F045AB07
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AC19
, 5F045AD12
, 5F045AE25
, 5F045AF02
, 5F045BB16
, 5F045CA10
, 5F045DA52
, 5F052DB03
, 5F052JA07
, 5F052JA10
, 5F052KA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (5)
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-238577
Applicant:住友電気工業株式会社, 小林猛
-
半導体ダイヤモンド及びその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-214192
Applicant:住友電気工業株式会社
-
n型単結晶ダイヤモンドおよびその製造方法、人工ダイヤモンドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-050106
Applicant:旭化成工業株式会社
-
低抵抗n型ダイヤモンドの合成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-208611
Applicant:科学技術振興事業団
-
ダイヤモンドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-076438
Applicant:ソニー株式会社
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Article cited by the Patent:
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