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J-GLOBAL ID:200903017790382582
ポジ型レジスト組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002279433
Publication number (International publication number):2003330195
Application date: Sep. 25, 2002
Publication date: Nov. 19, 2003
Summary:
【要約】【課題】現像欠陥の発生を著しく低減し、優れた矩形のプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)側鎖に脂環式炭化水素を有する特定の部分構造を有する繰り返し単位及び主鎖に脂環式炭化水素を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定のメルドラム酸化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位及び下記一般式(II)で示される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R23とR24は、互いに結合して環を形成していてもよい。【化2】式(II)中:R11',R12'は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Z'は、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。【化3】一般式(I)中、R1及びR2は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を表す。R1とR2とは、結合して環を形成してもよい。また、R1とR2とは、一緒になって二重結合で環と結合する置換基となってもよい。R3及びR4は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R3とR4とは、結合して環を形成してもよい。
IPC (5):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F232/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F232/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
F-Term (32):
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AR09Q
, 4J100AR11Q
, 4J100BA02P
, 4J100BA04P
, 4J100BA15P
, 4J100BA16Q
, 4J100BA20Q
, 4J100BA40Q
, 4J100BB00Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100CA04
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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ポジ型レジスト膜形成用塗布液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-172899
Applicant:東京応化工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-286860
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312671
Applicant:日本ゼオン株式会社
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