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J-GLOBAL ID:200903017912079762

半導体レーザアセンブリ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大澤 斌 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001103557
Publication number (International publication number):2002299744
Application date: Apr. 02, 2001
Publication date: Oct. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】 従来に比べて、半導体レーザ素子の素子寿命が長く、信頼性に優れ、全体の機械的強度が高い半導体レーザアセンブリを提供する。【解決手段】 本半導体レーザアセンブリ30は、半導体レーザ素子32と、第1のインジウム半田層34を介して半導体レーザ素子32の基板側に接合されているSiC製サブマウント36と、第2のインジウム半田層38を介してサブマウント36の裏面側に接合されているCu製ヒートシンク40とを備えている。本半導体レーザアセンブリでは、サブマウントの厚さが厚くなると、半導体レーザ素子に生じる応力が圧縮応力から引っ張り応力に変化するので、サブマウントの厚さを適正に設定すことにより、半導体レーザ素子32に発生する応力を実質的にゼロ(0)にすることができる。よって、発生した応力により歪みが半導体レーザ素子内に生じ、半導体レーザ素子が損傷するようなことが生じないので、半導体レーザ素子の素子寿命が長くなり、動作信頼性が向上する。
Claim (excerpt):
半導体レーザ素子と、第1の半田層を介して半導体レーザ素子の基板側に接合されているサブマウントと、第2の半田層を介してサブマウントの裏面側に接合されているヒートシンクとを備えた半導体レーザアセンブリにおいて、ヒートシンクは、熱膨張係数が半導体レーザ素子の熱膨張係数より大きい金属で形成され、サブマウントは、熱膨張係数が半導体レーザ素子の熱膨張係数より小さい金属で形成され、かつ半導体レーザアセンブリを半田層の溶融温度から室温に冷却したとき、半導体レーザ素子に生じる応力が実質的にゼロ(0)になる厚さを有することを特徴とする半導体レーザアセンブリ。
F-Term (5):
5F073CA02 ,  5F073EA28 ,  5F073FA15 ,  5F073FA22 ,  5F073FA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 半導体発光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-105149   Applicant:富士通株式会社
  • 光半導体装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-166495   Applicant:株式会社東芝
  • 光デバイスの組立構造
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-016814   Applicant:三菱電機株式会社
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