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J-GLOBAL ID:200903018179323380
プラズマトーチ
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山口 朔生 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001398517
Publication number (International publication number):2003194723
Application date: Dec. 27, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】プラズマガス流量を少なくできるプラズマトーチを提供すること。【解決手段】プラズマを生じさせるプラズマトーチ1において、キャリアガス21を移送するキャリアガス筒体2と、キャリアガス筒体2の外周に配置され、プラズマガス31を移送するプラズマガス筒体3と、プラズマガス筒体3の外周に配置され、プラズマガス筒体3を冷却する冷却ガス41を移送する冷却ガス筒体4とを備えた、プラズマトーチ1。
Claim (excerpt):
プラズマを生じさせるプラズマトーチにおいて、キャリアガスを移送するキャリアガス筒体と、キャリアガス筒体の外周に配置され、プラズマガスを移送するプラズマガス筒体と、プラズマガスをプラズマガス筒体内で回転するように導入するプラズマガス導入管と、プラズマガス筒体の外周に配置され、プラズマガス筒体を冷却する冷却ガスを移送する冷却ガス筒体とを備え、冷却ガス筒体から冷却ガスを排出する排出口は、プラズマガス筒体からプラズマガスを排出する排出側にあることを特徴とする、プラズマトーチ。
IPC (3):
G01N 21/73
, G01N 27/68
, H05H 1/28
FI (3):
G01N 21/73
, G01N 27/68 Z
, H05H 1/28
F-Term (14):
2G043AA01
, 2G043BA02
, 2G043EA08
, 2G043GA11
, 2G043GB02
, 2G043GB03
, 2G043GB05
, 2G043GB16
, 2G043HA01
, 2G043JA01
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043MA01
, 2G043MA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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インダクシヨンプラズマトーチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-323751
Applicant:株式会社三社電機製作所
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減圧用インダクションプラズマトーチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-093681
Applicant:株式会社三社電機製作所
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ICPトーチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-130527
Applicant:横河電機株式会社
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サンプル準備方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-269624
Applicant:バンドギャップテクノロジーコーポレイション, ヴィジーインスツルメンツグループリミテッド
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特開昭63-289798
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高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-050199
Applicant:株式会社東芝
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特表平6-500956
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