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J-GLOBAL ID：200903018363589849

投影露光装置

Inventor：
田中 康明

About 田中 康明


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995292362
Publication number (International publication number)：1997134865
Application date： Nov. 10, 1995
Publication date： May. 20, 1997
Summary：
【要約】【課題】 投影光学系の結像性能の変動を抑えると共に、露光用照明光の照射エネルギーのロスを抑える。【解決手段】 ArFエキシマレーザ光からなる照明光ILのもとで、レチクル1のパターンを投影光学系PLを介してウエハ2上に露光する投影露光装置において、投影光学系PLを構成するレンズ3a〜3n中のレンズ3bの表面側及び裏面側の両面にレンズ3bの両面を覆う密閉空間12,13を設け、その密閉空間12,13に温調装置7を介して温度制御された窒素ガスを供給する。レンズ3bの硝材としては、温度により屈折率が比較的変化し易い蛍石を選定し、レンズ3bの温度を変化させることにより屈折率を変化させて、投影光学系PLの結像特性を補正すると共に、ArFエキシマレーザ光の波長帯に対して吸収帯のない窒素ガスを使用することにより照射エネルギーのロスを抑える。
Claim (excerpt)：
所定の照明光のもとで、マスク上のパターンを投影光学系を介して感光性の基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系内の制御対象のレンズの周辺に前記照明光の波長に対する吸収帯のない温度制御された流体を供給する温度制御手段を設け、該温度制御手段を介して前記制御対象のレンズの温度を制御して、前記投影光学系の結像性能を制御することを特徴とする投影露光装置。
IPC (5)：
H01L 21/027 ,  G02B 3/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521
FI (5)：
H01L 21/30 516 E ,  G02B 3/00 A ,  G02F 1/13 101 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 特開昭60-159748
  • 特開昭60-159748
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-199398   Applicant：日本電気株式会社
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