研磨パッド

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：竹内澄夫 , 堀明▲ひこ▼
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004299838
Publication number (International publication number)：2006110665
Application date： Oct. 14, 2004
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：

【課題】ウエハの表面を短時間で均一に平坦化できる研磨パッドを提供する。【解決手段】高圧縮回復率を有し、低圧縮率を有する硬質の研磨パッド。研磨パッド10は、合成樹脂の無発泡体からなるシート状のパッド本体11から構成される。パッド本体のショアD硬度は、66.0〜78.5の範囲、好ましくは70.0〜78.5の範囲、より好ましくは70.0〜78.0の範囲、さらに好ましくは72.0〜76.0の範囲にある。パッド本体の圧縮率は、4%以下の範囲にあり、好ましくは2%以下の範囲にある。パッド本体の圧縮回復率は、50%以上の範囲、好ましくは70%以上の範囲にある。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

研磨パッドであって、合成樹脂の無発泡体からなるシート状のパッド本体、から成り、前記パッド本体のショアD硬度が66.0〜78.5の範囲にあり、前記パッド本体の圧縮率が4%以下の範囲にあり、前記パッド本体の圧縮回復率が50%以上の範囲にある、ところの研磨パッド。

IPC (2)：

B24B 37/00 , H01L 21/304

FI (2)：

B24B37/00 C , H01L21/304 622F

F-Term (5)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

化学機械平坦化用溝付き研磨パッド
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-587969 Applicant：ロデールホールディングスインコーポレイテッド

Cited by examiner (4)

研磨パッド及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-044696 Applicant：東洋紡績株式会社
研磨パッドおよび研磨装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-070043 Applicant：東レ株式会社
ポリッシング定盤および研磨品製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-141985 Applicant：エヌティエヌ株式会社, 財団法人川村理化学研究所

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