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J-GLOBAL ID:200903018643570590

化学増幅型ネガ型レジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996347975
Publication number (International publication number):1998186660
Application date: Dec. 26, 1996
Publication date: Jul. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 本発明の目的は、化学増幅型ネガ型レジストについて、更に解像度を向上させると共に、プロファイル形状が優れ、且つ基板依存性の少ないものを提供することを目的としてなされたものである。【解決手段】 本発明に係る化学増幅型ネガ型レジスト組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなる化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、該組成物が、(D)有機カルボン酸化合物及び(E)有機アミン化合物を含有してなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなる化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、該組成物が、(D)有機カルボン酸化合物及び(E)有機アミン化合物を含有してなることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。
IPC (4):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 Z ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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