化学増幅型感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995046672
Publication number (International publication number)：1996217815
Application date： Feb. 13, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】アルミニウム基板に代表される反射率の高い基板上においても、微細なレジストパターンを正確に再現でき、かつ保存安定性に優れ、しかも感度、解像度、現像性、パターン形状等にも優れた化学増幅型感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】放射線照射により酸を発生させ、その酸の作用による化学変化によって、放射線照射部の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成する化学増幅型感放射線性樹脂組成物において、アントラセン-9-メタノールあるいはアントラセン-9-カルボキシエチルで代表されるアントラセン誘導体を含有することを特徴とする化学増幅型感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有し、放射線の照射により発生した酸の触媒作用による化学反応によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成する化学増幅型感放射線性樹脂組成物において、下記式(1)で表される少なくとも1種のアントラセン誘導体を含有することを特徴とする化学増幅型感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、X1〜X8は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基またはニトロ基を示し、R1およびR2は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、ニトロ基、-(CH2)n-O-R3(ここで、R3は水素原子、アルキル基またはアリール基を示し、nは0〜3の整数である。)または-(CH2)n-COO-R4(ここで、R4は水素原子、アルキル基またはアリール基を示し、nは0〜3の整数である。)を示す。〕

IPC (7)：

C08F 2/50 MDN , C08K 5/00 KAJ , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 506 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (7)：

C08F 2/50 MDN , C08K 5/00 KAJ , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 506 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

近紫外-可視域イメージング用ポジチブフォトレジスト系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-207846 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-031351 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開平3-237106

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