Pat

J-GLOBAL ID：200903018721114750

放射線感光材料及びそれを使用したパターン形成方法

Inventor： 三宅 弘人
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Agent (1)： 三浦 良和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998050007
Publication number (International publication number)：1999231541
Application date： Feb. 17, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 安価で、高感度で、優れた透明性、エッチング耐性および密着性を有する放射線感光材料及びそれを使用したパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (メタ)アクリロイル基のような不飽和基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ1つ以上有するアクリル樹脂、及びトリフェニルスルフォニウムヘキサフロロアンチモンのような放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。

Claim (excerpt)：

不飽和基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-136123   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-316888   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-280695   Applicant：日本電気株式会社
• 放射線感光材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-276597   Applicant：富士通株式会社
• ポジ型化学増幅フォトレジスト及びレジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-124967   Applicant：富士通株式会社