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J-GLOBAL ID：200903018935440760

フォトレジスト用高分子化合物

Inventor：
渡邊 仁志

About 渡邊 仁志

, 
早水 秀隆

About 早水 秀隆

, 
岸村 昌明

About 岸村 昌明


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (2)： 後藤 幸久 ,  壬生 優子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005289975
Publication number (International publication number)：2006037117
Application date： Oct. 03, 2005
Publication date： Feb. 09, 2006
Summary：
【課題】 金属成分等の不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、ラクトン骨格を含む単量体(a)、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を滴下重合に付して得られるフォトレジスト用高分子化合物であって、(i)前記滴下重合により得られたポリマーを、有機溶媒と水とを用いた抽出操作に付す抽出工程(B)、又は(ii)前記滴下重合により得られたポリマーを含有する特定のポリマー溶液を特定のフィルターに通液させる工程(I)を経ることにより、ナトリウム含有量(ポリマー重量基準)が95重量ppb以下に低減されている。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
ラクトン骨格を含む単量体(a)、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を滴下重合に付して得られるフォトレジスト用高分子化合物であって、(i)前記滴下重合により生成したポリマーを、有機溶媒と水とを用いた抽出操作に付し、生成したポリマーを有機溶媒層に、不純物としての金属成分を水層に分配する抽出工程(B)、又は(ii)前記滴下重合により生成したポリマーを含有し、且つ金属含有量が前記ポリマーに対して1000重量ppb以下であるポリマー溶液を、カチオン交換基を有する多孔質ポリオレフィン膜で構成されたフィルターに通液させる工程(I)を経ることにより、ナトリウム含有量(ポリマー重量基準)が95重量ppb以下に低減されたフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (2)：
C08F 20/26 ,  G03F 7/039
FI (2)：
C08F20/26 ,  G03F7/039 601
F-Term (22)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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