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J-GLOBAL ID：200903067024278649

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
青合 利明

About 青合 利明

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佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999321347
Publication number (International publication number)：2001142212
Application date： Nov. 11, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂と、(C)下記(a)の溶媒を全溶剤に対して60〜90重量%含有する溶剤と、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物である。ただし(a)の溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート,プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート,3-メトキシプロピオン酸メチル,3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、または、3-エトキシプロピオン酸エチルである。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(C)下記(a)の溶媒を全溶剤に対して60〜90重量%含有する溶剤、(a)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート,プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート,3-メトキシプロピオン酸メチル,3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルから選択される少なくとも1種の第1の溶媒、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (19)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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