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J-GLOBAL ID：200903018982947296
パターン形成体の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005361484
Publication number (International publication number)：2007165679
Application date： Dec. 15, 2005
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：
【課題】本発明は、例えばマイクロレンズ付基板等のパターン形成体を、従来に比べて簡便な方法で得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板、および上記基板上に形成された感光性樹脂層を備えた被転写基板と、表面に凹凸パターンを有するテンプレートとを用い、上記被転写基板の感光性樹脂層と、上記テンプレートの凹凸パターンとを密着させ密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、上記密着積層体のテンプレート側から光を照射する露光工程と、上記露光工程後に、上記密着積層体のテンプレートを剥離することにより、凹凸被転写基板を形成し、上記凹凸被転写基板を現像液で現像する現像工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基板、および前記基板上に形成された感光性樹脂層を備えた被転写基板と、表面に凹凸パターンを有するテンプレートとを用い、前記被転写基板の感光性樹脂層と、前記テンプレートの凹凸パターンとを密着させ密着積層体を形成する密着積層体形成工程と、
前記密着積層体のテンプレート側から光を照射する露光工程と、
前記露光工程後に、前記密着積層体のテンプレートを剥離することにより、凹凸被転写基板を形成し、前記凹凸被転写基板を現像液で現像する現像工程と、
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, B81C 5/00
, G02B 3/00
H01L21/30 502D
, B81C5/00
, G02B3/00 A
Cited by applicant (1)
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インプリント装置及びインプリント方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-282987
Applicant：日本電信電話株式会社
Cited by examiner (6)
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