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J-GLOBAL ID:200903019089724072

水処理方法および水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006158262
Publication number (International publication number):2007326019
Application date: Jun. 07, 2006
Publication date: Dec. 20, 2007
Summary:
【課題】活性炭の吸着能力を向上させることができると共に、活性炭を人為的に再生する必要がなく、かつ、浄化能力に優れる水処理方法および水処理装置を提供すること。【解決手段】被処理水にマイクロナノバブルを含有させてなるマイクロナノバブル含有被処理水を、生物処理装置42を通過させた後、微生物が繁殖する活性炭を充填した活性炭吸着塔12に流入させる。このようにして、マイクロナノバブル含有被処理水に含まれる有機物を微生物で分解する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
被処理水にマイクロナノバブルを含有させてなるマイクロナノバブル含有被処理水を、生物処理、化学処理および物理処理のうちの少なくとも一つを行う前処理装置を通過させて、 上記前処理装置を通過したマイクロナノバブル含有被処理水を、微生物が繁殖する活性炭を充填した活性炭吸着塔に流入させて、 上記活性炭に繁殖した上記微生物を上記マイクロナノバブルによって活性化して、 上記活性炭に吸着された有機物を、上記活性化した微生物によって分解して、上記活性炭を再生することを特徴とする水処理方法。
IPC (4):
C02F 3/06 ,  C02F 3/10 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/20
FI (4):
C02F3/06 ,  C02F3/10 A ,  C02F1/28 D ,  C02F3/20 B
F-Term (34):
4D003AA01 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003BA03 ,  4D003CA02 ,  4D003CA07 ,  4D003CA10 ,  4D003EA01 ,  4D003EA30 ,  4D003FA06 ,  4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024DA03 ,  4D024DA04 ,  4D024DA07 ,  4D024DB03 ,  4D024DB15 ,  4D029AA09 ,  4D029AB01 ,  4D624AA04 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624BB01 ,  4D624BC01 ,  4D624CA01 ,  4D624DA03 ,  4D624DA04 ,  4D624DA07 ,  4D624DB03 ,  4D624DB15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-288963   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-145325   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-121082   Applicant:日立エンジニアリング株式会社
Cited by examiner (5)
  • 排水処理方法および排水処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-133329   Applicant:シャープ株式会社
  • 微細気泡発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-231074   Applicant:株式会社多自然テクノワークス, 矢山利彦
  • 微細気泡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-347352   Applicant:大成博文
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