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J-GLOBAL ID:200903019254434246
薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ及び画像表示装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008143570
Publication number (International publication number):2009290130
Application date: May. 30, 2008
Publication date: Dec. 10, 2009
Summary:
【課題】絶縁層の上部と下部との導電体の間の導通をバンプにより十分に確保することができる薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ及び画像表示装置を提供する。【解決方法】バンプと、バンプにより貫通される絶縁層とを含む薄膜トランジスタにおいて、バンプがフッ素化合物を含み、絶縁層が塗布法で形成され、バンプのフッ素含有量が、0.01wt%以上5wt%以下であり、バンプが凹版印刷法またはスクリーン印刷法で形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。【選択図】図1
Claim (excerpt):
バンプと、前記バンプにより貫通される絶縁層とを含む薄膜トランジスタにおいて、
前記バンプがフッ素化合物を含み、
前記絶縁層が塗布法で形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。
IPC (4):
H01L 21/336
, H01L 29/786
, H01L 21/28
, G02F 1/136
FI (4):
H01L29/78 612Z
, H01L21/28 301R
, G02F1/1368
, H01L29/78 619A
F-Term (78):
2H092JA25
, 2H092JA26
, 2H092JA28
, 2H092JA34
, 2H092JA37
, 2H092JA41
, 2H092JA46
, 2H092JA47
, 2H092JA48
, 2H092JB22
, 2H092JB31
, 2H092JB57
, 2H092JB69
, 2H092KA09
, 2H092KA18
, 2H092KA19
, 2H092KA20
, 2H092KB04
, 2H092KB06
, 2H092KB24
, 2H092KB25
, 2H092MA02
, 2H092MA08
, 2H092MA10
, 2H092NA27
, 2H092PA01
, 4M104AA09
, 4M104AA10
, 4M104BB02
, 4M104BB04
, 4M104BB05
, 4M104BB08
, 4M104BB09
, 4M104BB13
, 4M104BB36
, 4M104BB38
, 4M104BB39
, 4M104DD51
, 4M104EE03
, 4M104EE16
, 4M104EE18
, 4M104GG09
, 4M104GG19
, 4M104HH20
, 5F110BB01
, 5F110CC01
, 5F110CC03
, 5F110CC06
, 5F110CC08
, 5F110DD01
, 5F110DD03
, 5F110DD05
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE07
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF27
, 5F110FF36
, 5F110GG05
, 5F110GG42
, 5F110GG58
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK07
, 5F110HK32
, 5F110HM18
, 5F110NN03
, 5F110NN27
, 5F110NN33
, 5F110NN36
, 5F110NN40
, 5F110NN72
, 5F110QQ06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開平4-279046
-
メンブレン回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-302500
Applicant:株式会社フジクラ
-
配線回路基板の製造方法、及び多層配線基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-289319
Applicant:株式会社ノース
-
液晶表示装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-329505
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
電導性構成の製造プロセス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-184405
Applicant:ゼロックスコーポレイション
-
導電性有機ポリマー/ナノ粒子複合材料およびその使用方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-504026
Applicant:イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
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