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J-GLOBAL ID：200903019378142898

マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法

Inventor：
田辺 勝

About 田辺 勝


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (3)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004242628
Publication number (International publication number)：2006058777
Application date： Aug. 23, 2004
Publication date： Mar. 02, 2006
Summary：
【課題】 位相欠陥となる微小な凸欠陥や、透過光量の低下を引き起こす微小な凹欠陥を低減できるマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 マスクブランク用基板10の主表面19に、研磨剤を含む研磨液を凍結させた第1凍結体11を接触させて摺動させ、上記主表面を研磨してマスクブランク用基板を製造する。上記主表面の研磨加工は、当該主表面を精密加工した後欠陥検査を行って当該主表面上の欠陥を特定し、この特定された欠陥に対して実施するものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
マスクブランク用基板の主表面に、研磨剤を含む研磨液を凍結させた凍結体を接触させて相対移動させ、上記主表面を研磨することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
IPC (4)：
G03F 1/14 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 ,  B24D 3/06
FI (5)：
G03F1/14 A ,  B24B37/00 K ,  B24D3/00 310F ,  B24D3/00 320Z ,  B24D3/06 Z
F-Term (11)：
2H095BC26 ,  2H095BD01 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C063AA10 ,  3C063AB05 ,  3C063BB01 ,  3C063BC01 ,  3C063EE01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特開平1-40267号公報
Cited by examiner (6)
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