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J-GLOBAL ID：200903019796182219

半導体装置及びその製造方法

Inventor：
宮永 績

About 宮永 績

, 
堂前 伸一

About 堂前 伸一

, 
上田 哲也

About 上田 哲也


Applicant, Patent owner：
松下電子工業株式会社

About 松下電子工業株式会社


Agent (1)： 前田 弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999229731
Publication number (International publication number)：2001053144
Application date： Aug. 16, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ヴィアホールを形成するためのフォトリソグラフィ工程においてアライメントずれが生じても、ヴィアホールと空孔とが連通せず、これによって、配線同士が短絡する事態を防止する。【解決手段】 半導体基板100上の第1の金属配線102の上にシリコン窒化膜からなる第1の絶縁膜103を薄く堆積した後、該第1の絶縁膜103の上にシリコン酸化膜からなる第2の絶縁膜104を堆積する。第1の絶縁膜103にオーバーハング部103aが形成されているため、第2の絶縁膜104における第1の金属配線102同士の間に空孔105が形成される。第2の絶縁膜104及び第1の絶縁膜103に対して順次ドライエッチングを行なって、第2の絶縁膜104及び第1の絶縁膜103にヴィアホール106を形成した後、該ヴィアホール106に導電性材料を充填してヴィアコンタクト107を形成する。
Claim (excerpt)：
半導体基板上に形成された複数の配線と、該複数の配線の上に堆積された層間絶縁膜に前記配線と接続するように埋め込まれたヴィアコンタクトとを備えた半導体装置の製造方法であって、前記半導体基板の上に前記複数の配線を形成する工程と、前記複数の配線の上面及び側面並びに前記半導体基板の上に、前記層間絶縁膜に対してエッチング選択性を有する絶縁膜を堆積する工程と、前記絶縁膜の上に前記層間絶縁膜を、前記複数の配線のうち互いに近接している前記配線同士の間に空孔が形成されるように堆積する工程と、前記層間絶縁膜及び前記絶縁膜に前記配線の上面を露出させるヴィアホールを形成する工程と、前記ヴィアホールに導電性材料を充填することにより、該導電性材料からなる前記ヴィアコンタクトを形成する工程とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
F-Term (26)：
5F033HH08 ,  5F033HH09 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033KK08 ,  5F033KK09 ,  5F033KK11 ,  5F033KK12 ,  5F033MM02 ,  5F033MM13 ,  5F033NN07 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ25 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ48 ,  5F033RR01 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033RR08 ,  5F033RR30 ,  5F033SS15 ,  5F033TT02 ,  5F033XX15 ,  5F033XX31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (18)
  • 半導体装置の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-043312   Applicant：日本電気株式会社
  • 半導体装置及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-005396   Applicant：日本電気株式会社
  • 半導体装置及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-164467   Applicant：日本電気株式会社
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