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J-GLOBAL ID：200903020137764519

質量分析用基板並びに分析方法および装置

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之

, 
大塚 尚

About 大塚 尚


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005369441
Publication number (International publication number)：2007171003
Application date： Dec. 22, 2005
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：
【課題】基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、その物質を捕捉して質量分析する方法において、より低パワーのレーザ光を使用可能とする。【解決手段】基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、そのイオンを捕捉して質量分析する方法に用いられる質量分析用基板として、その表面の少なくとも一部が、レーザ光照射を受けて局在プラズモンを励起し得る金属粗面(例えばアルミナ層5の表面に形成された多数の微細孔6内に、該微細孔6の径よりも大きな頭部がアルミナ層5表面よりも上に突出した状態で金微粒子8が充填されてなる)とされている基板3を用いる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、その物質を捕捉して質量分析する方法に用いられる前記基板であって、その表面の少なくとも一部が、レーザ光照射を受けて局在プラズモンを励起し得る金属粗面とされていることを特徴とする質量分析用基板。
IPC (3)：
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  H01J 49/04
FI (5)：
G01N27/62 V ,  G01N27/62 F ,  G01N27/64 B ,  G01N27/62 K ,  H01J49/04
F-Term (10)：
2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041DA04 ,  2G041EA01 ,  2G041GA06 ,  2G041JA08 ,  2G041JA16 ,  5C038EE03 ,  5C038EF17 ,  5C038EF21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (3)

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