感光性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996261970
Publication number (International publication number)：1997166868
Application date： Oct. 02, 1996
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザ光およびF2 エキシマレーザ光などの短波長光に対する透明性が優れ、高い感度で解像性の良好なレジストパターンを形成することができる感光性組成物を提供する。【解決手段】酸分解性基および酸架橋性基のいずれか一方を有する化合物と、下記一般式(1)で表される化合物とを含有する感光性組成物である。【化1】(式中、Ar1 ,Ar2 は芳香環または縮合芳香環、R1 ,R2 はハロゲン原子または1価の有機基、XはCF3 SO3 ,CH3 SO3 ,CF3 COOH,ClO4 ,SbF6 またはAsF6 、ZはCl,Br,I,S-RまたはSe-R(Rは炭素数1以上10以下のアルキル基またはパーフルオロアルキル基)、m,nは0または正の整数を示す。)

Claim (excerpt)：

ArFエキシマレーザ光およびF2 エキシマレーザ光のいずれかにより露光を施しパターンを形成するための感光性組成物であって、酸分解性基および酸架橋性基のいずれか一方を有する化合物と、下記一般式(1)で表される化合物とを含有する感光性組成物。【化1】(式中、Ar1 ,Ar2 は芳香環または縮合芳香環、R1 ,R2 はハロゲン原子または1価の有機基、XはCF3 SO3 ,CH3 SO3 ,CF3 COOH,ClO4 ,SbF6 およびAsF6 からなる群から選択され、ZはCl,Br,I,S-RおよびSe-R(Rは炭素数1以上10以下のアルキル基またはパーフルオロアルキル基)からなる群から選択され、m,nは0または正の整数を示す。)

IPC (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

感光性組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-281802 Applicant：株式会社東芝
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-068630 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-299093 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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Cited by examiner (4)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-299093 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-068630 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ネガ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-344085 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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