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J-GLOBAL ID：200903020647020310

フオトレジスト用感光性樹脂組成物

Inventor：
宮川 堅次

About 宮川 堅次

, 
瀬古 健治

About 瀬古 健治


Applicant, Patent owner：
関西ペイント株式会社

About 関西ペイント株式会社


Agent (1)： 小田島 平吉 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998282041
Publication number (International publication number)：2000147767
Application date： Sep. 18, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高感度でレーザーによる直接描画が可能なフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(i)のエポキシ基1モルに対し、エチレン性不飽和モノカルボン酸0.8〜1.3モルの割合で反応させて得られる不飽和樹脂(ii)に、さらに二塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和樹脂、(B)エポキシ基を有さないエチレン性不飽和化合物、及び(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
(A)エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(i)のエポキシ基1モルに対し、エチレン性不飽和モノカルボン酸を0.8〜1.3モルの割合で反応させて得られる不飽和樹脂(ii)に、さらに二塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和樹脂、(B)エポキシ基を有さないエチレン性不飽和化合物、及び(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (7)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06
FI (7)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06 H ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (32)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC81 ,  2H025BC85 ,  2H025CA18 ,  2H025CA39 ,  2H025CA41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  5E339AB02 ,  5E339AB05 ,  5E339BC02 ,  5E339BC05 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD03 ,  5E339FF01 ,  5E339GG10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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