光導波路とその形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 伊藤英彦 , 甲田一幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002174017
Publication number (International publication number)：2004020783
Application date： Jun. 14, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：

【課題】光通信分野において、光学部品として利用される光導波路を簡便かつ低コストで提供する。【解決手段】光導波路は、基板(1)上において相対的に低屈折率のクラッド部(2)に包囲された相対的に高屈折率のコア部(2c)を含み、少なくともそのコア部(2c)が高屈折率を有するDLC膜で形成されている。【選択図】図11

Claim (excerpt)：

基板上において相対的に低屈折率のクラッド部に包囲された相対的に高屈折率のコア部を含む光導波路であって、少なくとも前記コア部がDLC膜で形成されていることを特徴とする光導波路。

IPC (2)：

G02B6/12 , G02B6/13

FI (2)：

G02B6/12 N , G02B6/12 M

F-Term (7)：

2H047KA04 , 2H047PA05 , 2H047PA21 , 2H047PA22 , 2H047PA24 , 2H047QA01 , 2H047QA04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

赤外線用光路の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-100482 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
ダイヤモンドの選択形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-347201 Applicant：出光石油化学株式会社
光検出デバイスおよびその駆動方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-163592 Applicant：株式会社リコー

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Cited by examiner (6)

赤外線用光路の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-100482 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
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