気体溶解装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：永田良昭 , 永田元昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003197741
Publication number (International publication number)：2004209459
Application date： Jul. 16, 2003
Publication date： Jul. 29, 2004
Summary：

【課題】液体を供給するポンプと、ポンプ下流の液体経路に設けられた気体溶解通路と、この気体溶解通路の上部に接続されて、その下部が処理装置に接続される液体調整通路と、気体溶解通路下部の液体流入部上流の液体に気体を混入する第1気体混入手段と、液体調整通路上部の加圧気体を第1気体混入手段に供給する気体循環系とを設けることで、簡単な構成でありながら、低コストかつ低エネルギにて気体の溶解効率を高めることができる気体溶解装置の提供を目的とする。【解決手段】処理装置Yで処理される液体に気体を溶解させる気体溶解装置Xであって、液体を供給するポンプ2下流の液体経路1に対して、上下方向に配置された気体溶解通路3と、該気体溶解通路3の上部に接続され、かつ下部に処理装置Yへ接続される液体流出口5を有し、上下方向に配置された液体調整通路6とを備え、上記気体溶解通路3下部の液体流入部上流の液体に気体を混入する第1気体混入手段7を設け、上記液体調整通路6上部の加圧気体を上記第1気体混入手段7に供給する気体循環通路8を設けたことを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

処理装置で処理される液体に気体を溶解させる気体溶解装置であって、液体を供給するポンプ下流の液体経路に対して、上下方向に配置された気体溶解通路と、該気体溶解通路の上部に接続され、かつ下部に処理装置へ接続される液体流出口を有し、上下方向に配置された液体調整通路とを備え、上記気体溶解通路下部の液体流入部上流の液体に、気体を混入する第1気体混入手段を設け、上記液体調整通路上部の加圧気体を、上記第1気体混入手段に供給する気体循環系を設けた気体溶解装置。

IPC (4)：

B01F1/00 , B01F5/04 , B03D1/14 , C02F1/24

FI (4)：

B01F1/00 A , B01F5/04 , B03D1/14 A , C02F1/24 A

F-Term (8)：

4D037AA11 , 4D037AB02 , 4D037BA03 , 4D037BA04 , 4D037BB01 , 4G035AA02 , 4G035AC22 , 4G035AE02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

オゾン水の製造方法、及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-209722 Applicant：株式会社環境保全システム
オゾン水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-013052 Applicant：コア・メディカル株式会社
微細気泡発生装置ならびに浴槽システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-366589 Applicant：株式会社ノーリツ

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