Pat
J-GLOBAL ID：200903021029937543

ガスハイドレート生成容器、ガスハイドレート製造装置及び製造方法

Inventor：
渡部 正治

About 渡部 正治

, 
長安 弘貢

About 長安 弘貢

, 
岩崎 省二郎

About 岩崎 省二郎


Applicant, Patent owner：
三菱重工業株式会社

About 三菱重工業株式会社


Agent (1)： 藤田 考晴 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001272543
Publication number (International publication number)：2003082371
Application date： Sep. 07, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ガスハイドレートを安定して高速かつ大量に生成することができ、ガスハイドレートの製造効率を高めることのできる、ガスハイドレート生成容器、ガスハイドレート製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】 ハイドレート形成物質を含むガスを水と水和させて、ガスハイドレートを生成するためのガスハイドレート生成容器10aが、容器本体11と、、水滴wdを生成して容器本体11内に滴下する水滴生成装置12aと、を備えるとともに、水滴生成装置12aが、多数の孔hが形成された底部を有し内部に水を貯める貯水部Rと、貯水部R内に設けられ、貯水部R内の水を所定の周期で加減圧する加減圧機14と、を備えるように構成した。
Claim (excerpt)：
ハイドレート形成物質を含むガスを水と水和させて、ガスハイドレートを生成するためのガスハイドレート生成容器であって、容器本体と、該容器本体内の上部側に設けられ、水滴を生成して前記容器本体内に滴下する水滴生成手段と、を備え、前記水滴生成手段は、多数の孔が形成された底部を有し内部に水を貯める貯水部と、該貯水部内に設けられ、該貯水部内の水を所定の周期で加減圧する加減圧手段と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート生成容器。
IPC (7)：
C10L 3/06 ,  B01J 19/00 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04
FI (7)：
B01J 19/00 A ,  C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A
F-Term (23)：
4G075AA03 ,  4G075AA23 ,  4G075AA35 ,  4G075AA61 ,  4G075BA10 ,  4G075BB05 ,  4G075BD16 ,  4G075BD27 ,  4G075CA03 ,  4G075CA05 ,  4G075CA65 ,  4G075CA66 ,  4G075DA01 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC06 ,  4G075EC09 ,  4G075FA01 ,  4G075FC20 ,  4H006AA02 ,  4H006AC90 ,  4H006AD16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM