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J-GLOBAL ID：200903021825669143

パターン形成方法

Inventor：
岩崎 政幸

About 岩崎 政幸

, 
石川 弘美

About 石川 弘美

, 
下山 裕司

About 下山 裕司


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (2)： 廣田 浩一 ,  流 良広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005128749
Publication number (International publication number)：2006018228
Application date： Apr. 26, 2005
Publication date： Jan. 19, 2006
Summary：
【課題】 微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。【解決手段】 感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成する感光層形成工程と、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、不活性ガス雰囲気下で、前記感光層を、露光する露光工程と、該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを備えたパターン形成方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、感光層を形成する感光層形成工程と、 光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、不活性ガス雰囲気下で、前記感光層を、露光する露光工程と、 該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを含んでなることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3)：
G03F 7/20 ,  G02B 5/20 ,  G03F 7/004
FI (4)：
G03F7/20 501 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/004 505 ,  G03F7/004 512
F-Term (25)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CC11 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H048BA02 ,  2H048BA48 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H097BA06 ,  2H097EA01 ,  2H097GB04 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  2H097LA15 ,  2H097LA17 ,  2H097LA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (17)
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