クリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005143578
Publication number (International publication number)：2006322716
Application date： May. 17, 2005
Publication date： Nov. 30, 2006
Summary：

【課題】ホウ素化合物をサンプリングするに際して希酸性溶液を用いることなく、クリーンルーム内空間のホウ素化合物による汚染状態を簡便に評価する方法を提供すること。【解決手段】クリーンルーム内空間ガスを、セルロース製パウダーを充填したカラムまたはセルロース製メンブレンフィルタを装着した濾過器に、通気することにより、該空間ガスに含まれるホウ素化合物を該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタに吸着させ、次いで、吸着されたホウ素化合物を、該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタから脱離させ、脱離したホウ素化合物を分析することを特徴とするクリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

クリーンルーム内空間ガスを、セルロース製パウダーを充填したカラムまたはセルロース製メンブレンフィルタを装着した濾過器に、通気することにより、該空間ガスに含まれるホウ素化合物を該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタに吸着させ、次いで、吸着されたホウ素化合物を、該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタから脱離させ、脱離したホウ素化合物を分析することを特徴とするクリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法。

IPC (4)：

G01N 30/00 , B01J 20/24 , G01N 1/22 , G01N 33/00

FI (4)：

G01N30/00 E , B01J20/24 A , G01N1/22 L , G01N33/00 C

F-Term (20)：

2G052AA03 , 2G052AB01 , 2G052AC13 , 2G052AD02 , 2G052AD46 , 2G052BA14 , 2G052BA21 , 2G052CA02 , 2G052CA12 , 2G052ED01 , 2G052ED07 , 2G052ED11 , 2G052GA24 , 2G052JA04 , 4G066AC02B , 4G066BA03 , 4G066BA09 , 4G066CA21 , 4G066DA03 , 4G066EA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

空気中のホウ素化合物を捕集、脱着する方法およびその分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-141292 Applicant：三菱電機株式会社
揮発性元素の濃縮方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-102234 Applicant：株式会社トクヤマ

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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