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J-GLOBAL ID：200903022137446323

高分子電解質組成物及びその製造方法

Inventor：
稲垣 靖史

About 稲垣 靖史

, 
渡辺 春夫

About 渡辺 春夫

, 
野口 勉

About 野口 勉

, 
黒宮 美幸

About 黒宮 美幸


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996262041
Publication number (International publication number)：1998101873
Application date： Oct. 02, 1996
Publication date： Apr. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ポリスチレン系高分子電解質の経時的安定性を向上させることができる高分子電解質組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る高分子電解質組成物は、水溶性のポリスチレン系高分子電解質と安定化剤とを含有することを特徴とする。ポリスチレン系高分子電解質と安定化剤とを混合することによって、ポリスチレン系高分子電解質の自動酸化反応を抑制することができるとともにポリスチレン系高分子電解質の経時的な安定性を向上させることができ、分子量が高い、ポリスチレン系高分子電解質が得られる。
Claim (excerpt)：
水溶性のポリスチレン系高分子電解質と、安定化剤とを含有することを特徴とする高分子電解質組成物。
IPC (4)：
C08L 25/18 ,  C08F 8/24 ,  C08F 8/36 ,  C08K 5/00
FI (4)：
C08L 25/18 ,  C08F 8/24 ,  C08F 8/36 ,  C08K 5/00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (9)
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