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J-GLOBAL ID：200903022717594214

プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置

Inventor：
宇田 啓一郎

About 宇田 啓一郎

, 
隅田 憲武

About 隅田 憲武


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (7)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007330473
Publication number (International publication number)：2008178870
Application date： Dec. 21, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：
【課題】気体中において安定してオゾンやラジカル等を生成し、その生成されたオゾンやラジカル等をこれらが消滅する前に微細な気泡として液体中へ拡散させるプラズマ発生装置と洗浄浄化装置等を提供する。【解決手段】ケース部材3の内側に多孔質セラミックス部材6が配設されている。ケース部材3と多孔質セラミックス部材6との間の領域15には液体30が導入される。多孔質セラミックス部材6の内側の領域14には、線状電極21と円筒状電極22が配設されて、少なくとも酸素を含むガスが供給される。線状電極21と円筒状電極22との間に所定の電圧を印加することで放電が生じ、ガスがプラズマ化されてオゾンや各種のラジカルが生成される。生成されたオゾンやラジカルを含んだガスは内側の領域14から微細孔を経て、微細な気泡として液体30中へ拡散される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
液体を収容する液体収容部と、 気体を収容する気体収容部と、 前記液体収容部と前記気体収容部とを隔て、前記気体収容部中の前記気体の流通を許容して前記気体を前記液体収容部へ導くガス通路が形成された隔壁部と、 前記気体収容部に配設された第1電極と、 前記第1電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第1電極と対向する側の部分が前記液体収容部中の前記液体と接触しないように配設された第2電極と、 前記気体収容部の前記気体を前記ガス通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、前記気体収容部に少なくとも酸素を含むガスを供給するガス供給部と、 前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を供給して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された前記ガスをプラズマ化するプラズマ電源部と を備えた、プラズマ発生装置。
IPC (5)：
B01J 19/08 ,  C02F 1/68 ,  B01F 5/06 ,  B01F 3/04 ,  H05H 1/24
FI (7)：
B01J19/08 E ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  B01F5/06 ,  B01F3/04 A ,  H05H1/24
F-Term (21)：
4G035AB07 ,  4G035AC26 ,  4G035AE13 ,  4G035AE17 ,  4G075AA03 ,  4G075AA15 ,  4G075BA08 ,  4G075BB03 ,  4G075BD01 ,  4G075BD27 ,  4G075CA16 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EB27 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FB04 ,  4G075FC01 ,  4G075FC15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (11)
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