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J-GLOBAL ID:200903056914619263

水処理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004121996
Publication number (International publication number):2005296909
Application date: Apr. 16, 2004
Publication date: Oct. 27, 2005
Summary:
【課題】放電によるラジカル処理方法を使用する水処理システムにおいて、特に、水中に溶存する難分解性物質などの分解処理効率の向上を図ることが可能な水処理システムを提供することにある。【解決手段】水槽1内の処理対象水2をラジカル処理方式により処理する水処理システムにおいて、ラジカル処理用ガス70を流入して処理対象水2に噴出するガス流路41と、当該ガス70からラジカルを生成するための放電を発生するための放電部40とを有する放電用電極を備えている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
水槽内の処理対象水をラジカル処理方式により処理する水処理システムにおいて、 ラジカル処理用ガスを供給する手段と、 放電用高電圧を発生する電源と、 前記水槽内に配置されて、前記ラジカル処理用ガスを流入して前記処理対象水に噴出させるためのガス流路と、当該ガス流路において前記ラジカル処理用ガスが噴出する近傍で前記放電用高電圧に応じた放電を行なうための放電部とを有する放電用電極と を具備したことを特徴とする水処理システム。
IPC (2):
C02F1/72 ,  B01J19/08
FI (2):
C02F1/72 Z ,  B01J19/08 C
F-Term (23):
4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050AB16 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BB20 ,  4D050BD04 ,  4G075AA15 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BA08 ,  4G075BA10 ,  4G075BD27 ,  4G075CA18 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EC01 ,  4G075EC10 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (5)
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