プラズマ処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：鈴木利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999103946
Publication number (International publication number)：2000294395
Application date： Apr. 12, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】基板ホルダーの基板載置面からは見えない位置に電力導入部を設けることで、電力導入窓に堆積した膜が剥離しても、これが基板に対するゴミとならないようにする。【解決手段】真空容器は下部容器32と電力導入部34と上部容器36からなり、これらは互いに連通している。電力導入部34と上部容器36とで放電容器を構成している。下部容器32は金属製である。電力導入部34は円環形状であり、誘電体48の内部に円環形状のアンテナ46を埋め込んだものである。誘電体48の内外周と底面は導電性の覆い50で覆ってある。基板ホルダー38の表面(基板26を載せる面)の高さ位置は、電力導入部34の最上部の高さよりも高い位置にある。放電容器の内部では、電力導入部34から供給される高周波電力によって放電が生じ、プラズマが発生する。このプラズマにより基板26が処理される。

Claim (excerpt)：

次の(イ)〜(ハ)を備えたプラズマ処理装置。(イ)ガス導入系を接続できて、真空排気系につながる排気口を備えている、少なくとも一部が導電性の真空容器。(ロ)前記真空容器の内部に配置された基板ホルダー。(ハ)プラズマを発生させるための交流電力を前記真空容器の内部に導入するための電力導入部であって、次の(a)及び(b)の特徴を備えた電力導入部。(a)この電力導入部は誘電体を備えていて、この誘電体の少なくとも一部は前記真空容器の内部空間に露出している。(b)前記誘電体の前記露出した部分は、プラズマ処理時の位置にある前記基板ホルダーの基板載置面からは見えない位置にあり、かつ、前記基板載置面と前記排気口との間に位置している。

IPC (4)：

H05H 1/46 , C23C 14/34 , C23F 4/00 , H01L 21/3065

FI (4)：

H05H 1/46 A , C23C 14/34 T , C23F 4/00 A , H01L 21/302 B

F-Term (15)：

4K029CA05 , 4K029DC35 , 4K029DC48 , 4K029JA01 , 4K057DA02 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM29 , 4K057DM35 , 4K057DM40 , 5F004AA16 , 5F004BB14 , 5F004BB15 , 5F004BC08 , 5F004BD03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-284209 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-352894 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-063436 Applicant：富士通株式会社

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