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J-GLOBAL ID：200903023444383912

超音速分子ジェットレーザ分光分析用前処理装置およびその方法

Inventor： 林 俊一 ,  藤岡 裕二 ,  齋藤 公児 ,  佐藤 真樹 ,  藤本 千郷
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 岸田 正行 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999057105
Publication number (International publication number)：2000258395
Application date： Mar. 04, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 超音速分子ジェット中に注目するダイオキシン類等の有機分子を高濃度に存在させることで、選択性を維持しつつ、検出限界を低減させるとともに、オンラインかつリアルタイム測定装置を提供する。【解決手段】 極微量の有機分子を高感度に検出する超音速分子ジェットレーザ分光分析のための前処理装置であって、有機分子を吸着した吸着層4を設置する試料ホルダー21と、該試料ホルダー21を収納する試料導入室9と、該試料導入室9を真空排気する排気部7と、希ガスを試料導入室9に導入する希ガス導入部22と、試料を加熱するための加熱部11及び/又は試料に光を照射するための光照射部と、分子ジェットを生成するパルスバルブ14を有することを特徴とする超音速分子ジェットレーザ分光分析用前処理装置及び前処理方法。該前処理装置を用いた超音速分子ジェットレーザ分光分析装置。

Claim (excerpt)：

極微量の有機分子を高感度に検出する超音速分子ジェットレーザ分光分析のための前処理装置であって、有機分子を吸着した吸着層を設置する試料ホルダーと、該試料ホルダーを収納する試料導入室と、該試料導入室を真空排気する排気部と、希ガスを試料導入室に導入する希ガス導入部と、試料を加熱するための加熱部及び/又は試料に光を照射するための光照射部と、分子ジェットを生成するパルスバルブを有することを特徴とする超音速分子ジェットレーザ分光分析用前処理装置。

IPC (6)：

G01N 27/62 ZAB ,  G01N 27/62 ,  G01N 1/22 ,  G01N 27/64 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/40

FI (6)：

G01N 27/62 ZAB V ,  G01N 27/62 G ,  G01N 1/22 L ,  G01N 27/64 B ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/40

F-Term (9)：

5C038EE01 ,  5C038EF03 ,  5C038EF12 ,  5C038EF16 ,  5C038EF26 ,  5C038GG07 ,  5C038GH04 ,  5C038GH08 ,  5C038GH13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ダイオキシン類の抽出方法及び定量分析方法並びにそのシステム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-362358   Applicant：三菱重工業株式会社
• クロロベンゼン類の分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-309667   Applicant：日本鋼管株式会社
• レーザーイオン化質量分析装置及び質量分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-230866   Applicant：日本鋼管株式会社
• 排ガス中の微量有機化合物の測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050231   Applicant：日本鋼管株式会社
• 表面吸着ガス測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262365   Applicant：株式会社日立製作所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザーイオン化質量分析の今後の展望