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J-GLOBAL ID：200903023630369547

プレート部材、基板保持装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Inventor：
長坂 博之

About 長坂 博之

, 
藤原 朋春

About 藤原 朋春


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006074862
Publication number (International publication number)：2006295150
Application date： Mar. 17, 2006
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：
【課題】基板の裏面側に液体が浸入することを抑制できる基板保持装置を提供する。【解決手段】基板ホルダPHは、基板Pを保持する第1保持部PH1と、第1保持部PH1に保持された基板Pの側面Pcに対して所定のギャップAを介して対向し、撥液性を有するプレート部材Tの内側面Tcと、内側面Tcの上部に設けられた面取り部Cとを備えている。基板Pの側面Pcには撥液性を有する撥液領域が設けられており、面取り部Cは、第1保持部PH1に保持された基板Pの撥液領域と対向するように設けられている。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
液体を介して露光される処理基板を保持する基板保持装置であって、 前記処理基板を保持する保持部と、 前記保持部に保持された前記処理基板の側面に対して所定のギャップを介して対向し、撥液性を有する所定面と、 前記所定面の上部に形成された面取り部とを備え、 前記処理基板の側面には撥液性を有する撥液領域が設けられており、 前記面取り部は、前記保持部に保持された前記処理基板の撥液領域と対向するように設けられている基板保持装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/683
FI (3)：
H01L21/30 515G ,  H01L21/68 P ,  H01L21/30 515D
F-Term (12)：
5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA48 ,  5F031HA53 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046BA05 ,  5F046CB25 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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